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薄膜蒸着:動向、重要課題、市場分析

Thin Film Deposition: Trends, Key Issues, Market Analysis

半導体プロセスレポートシリーズ

 

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2020年7月US$4,995
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サマリー

この調査レポートは、薄膜蒸着市場における技術動向、製品用途、材料と機器のサプライヤを解説しています。

主な掲載内容(目次より抜粋)

  1. 概説
  2. エグゼクティブサマリー
  3. 物理気相 (成長物理蒸着)
    1. 概説
    2. スパッタリング技術
    3. プラズマ技術
    4. 反応器設計
    5. 半導体加工
    6. ターゲット材
  4. 化学気相成長 (化学蒸着)
    1. 概説
    2. 化学気相成長 (化学蒸着)技術
  5. 電気化学蒸着
    1. 概説
    2. 反応器設計
    3. 課題
    4. 添加剤
    5. 処理
    6. 銅陰極
    7. 湿式銅種層
  6. 膜蒸着と被膜特性
    1. 概説
    2. 誘電体蒸着
      1. 二酸化ケイ素
      2. シリコン窒化物
      3. 高誘電体
      4. 低誘電体
    3. 金属蒸着
      1. アルミニウム
      2. タングステン/ケイ化タングステン
      3. 窒化チタン
  7. ベンダ問題
  8. 市場予測

Thin film deposition processes play a critical role in the production of high-density, high-performance microelectronic products. Considerable progress has been achieved in the development of deposition processes -- and in the development of the reactor systems in which they are carried out. This report discusses the technology trends, products, applications, and suppliers of materials and equipment. It also gives  insights  to  suppliers  for future user needs and should assist them in long range planning, new  product development  and  product  improvement.   

This report compares some of the issues impacting users of different deposition tools, including: APCVD (SACVD), LPCVD, PECVD, HDPCVD, ALCVD, PVD, ALD. Market forecasts and market shares of vendors is presented.



目次

TABLE OF CONTENTS

Chapter 1      Introduction      1-1
Chapter 2      Executive Summary    2-1

Chapter 3     Physical Vapor Deposition    3-1

3.1    Introduction    3-1
3.2    Sputtering Technology    3-2
3.3    Plasma Technology    3-5
3.4    Reactor Designs    3-14
3.4.1    Long-Throw Deposition    3-14
3.4.2    Collimated Sputter Deposition    3-16
3.4.3    Showerhead Deposition    3-18
3.4.4    Ionized PVD    3-22
3.5    Semiconductor Processing    3-28
3.5.1    Feature Patterning    3-28
3.5.2    Gap Fill    3-31
3.6    Targets    3-34

Chapter 4     Chemical Vapor Deposition    4-1

4.1    Introduction    4-1
4.2    Chemical Vapor Deposition (CVD) Techniques    4-1
4.2.1    APCVD    4-1
4.2.2    LPCVD    4-6
4.2.3    PECVD    4-9
4.2.4    HDPCVD    4-13
4.2.5    ALD    4-19

Chapter 5      Electrochemical Deposition    5-1

5.1    Introduction    5-1
5.2    Reactor Design    5-5
5.3    Challenges    5-6
5.4    Additives    5-8
5.5    Processing    5-9
5.5.1    Superfilling    5-9
5.5.2    Aspect Ratios    5-9
5.6    Copper Cathodes    5-10
5.7    Wet Copper Seed-Layer    5-11

Chapter 6      Film Deposition And Film Properties    6-1

6.1    Introduction    6-1
6.2    Dielectric Deposition    6-4
6.2.1    Silicon Dioxide    6-5
6.2.1.1      Thermal CVD    6-5
6.2.1.2      PECVD    6-6
6.2.1.3      HDPCVD    6-9
6.2.2    Silicon Nitride    6-13
6.2.2.1      Thermal CVD    6-13
6.2.2.2      PECVD    6-14
6.2.2.3      HDPCVD    6-19
6.2.3    High-K Dielectrics    6-19
6.2.4    Low-K Dielectrics    6-22
6.3    Metal Deposition    6-23
6.3.1    Aluminum    6-23
6.3.2    Tungsten/Tungsten Silicide    6-26
6.3.3    Titanium Nitride    6-28

Chapter 7      Vendor Issues    7-1

7.1    Introduction    7-1
7.2    450mm Processing    7-6
7.3    Integrated Processing    7-8
7.4    Copper    7-11
7.5    Metrology    7-14
7.6    ESD    
7-17        
7.7    Parametric Test    7-18

Chapter 8      Market Forecast    8-1

8.1    Introduction    8-1
8.2    Key Issues    8-4
8.3    Market Forecast Assumptions    8-7
8.4    Market Forecast    8-8
8.4.1    Chemical Vapor Deposition    8-8
8.4.2    Physical Vapor Deposition    8-28
8.4.3    Copper Electroplating Market    8-32
8.4.4    Atomic Layer Deposition Market    8-36

List of Figures

3.1    Schematic Of Sputtering System    3-3
3.2    Magnetron Sputtering Design    3-9
3.3    Showerhead Reactor Design    3-19
3.4    Ionized PVD    3-24
4.1    APCVD Reactor    4-3
4.2    Tube CVD Reactor    4-7
4.3    HDPCVD Reactor    4-17
4.4     ALD Versus PVD Copper Barrier    4-26
5.1    Copper Electroplating System    5-3
7.1    Comparison Between Semiconductor and Equipment Revenues    7-4
8.1    Worldwide MCVD Market Shares    8-12
8.2    Worldwide DCVD Market Shares    8-13
8.3    Worldwide DCVD Market By Sectors    8-15
8.4    Worldwide HDHCVD Market Shares    8-18
8.5    Worldwide PECVD Market Shares    8-21
8.6    Worldwide SACVD Market Shares    8-24
8.7    Worldwide LPCVD Market Shares    8-27
8.8    Worldwide PVD Market Shares    8-31
8.9    Worldwide ECD Market Shares    8-34
8.10    Worldwide ALD Market Shares    8-38

List of Tables

8.1    Worldwide CVD Market Forecast    8-9
8.2    Worldwide MCVD Market Shares     8-10
8.3    Worldwide DCVD Market Shares      8-11
8.4    Worldwide HDPCVD Market Forecast    8-16
8.5    Worldwide HDPCVD Market Shares    8-17
8.6    Worldwide PECVD Market Forecast    8-19
8.7    Worldwide PECVD Market Shares    8-20
8.8    Worldwide SACVD Market Forecast    8-22
8.9    Worldwide SACVD Market Shares    8-23
8.10    Worldwide LPCVD Market Forecast    8-25
8.11    Worldwide LPCVD Market Shares    8-26
8.12    Worldwide PVD Market Forecast     8-29
8.13    Worldwide PVD Market Shares     8-30
8.14    Worldwide ECD Market Forecast    8-33
8.15    Worldwide ALD Market Forecast    8-37

 

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