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2025/05/02 10:26 146.99 円 166.15 円 197.83 円 フォトリソグラフィ装置の世界市場：タイプ別（DUV（ArFi、KrF、ArF、I-line）、EUV）、波長別（170nm-270nm、1nm-170nm、270nm-370nm）、デバイス波長別（エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ、水銀ランプ）、エンドユース別（IDM、ファウンドリー）、アプリケーション別（バックエンド、フロントエンド）、地域別、競争予測・機会、2026年Global Photolithography Equipment Market, By Type (DUV (ArFi, KrF, ArF and I-line), EUV), By Wavelength (170nm-270nm, 1nm-170nm, 270nm-370nm), By Device Wavelength (Excimer Lasers, Laser Produced Plasma, Mercury Lamps), By End-Use (IDMs, Foundries), By Application (Back End, Front End), By Region, Competition Forecast & Opportunities, 2026出版社：TechSci Research 
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