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フォトリソグラフィ装置の世界市場:タイプ別(DUV(ArFi、KrF、ArF、I-line)、EUV)、波長別(170nm-270nm、1nm-170nm、270nm-370nm)、デバイス波長別(エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ、水銀ランプ)、エンドユース別(IDM、ファウンドリー)、アプリケーション別(バックエンド、フロントエンド)、地域別、競争予測・機会、2026年


Global Photolithography Equipment Market, By Type (DUV (ArFi, KrF, ArF and I-line), EUV), By Wavelength (170nm-270nm, 1nm-170nm, 270nm-370nm), By Device Wavelength (Excimer Lasers, Laser Produced Plasma, Mercury Lamps), By End-Use (IDMs, Foundries), By Application (Back End, Front End), By Region, Competition Forecast & Opportunities, 2026

世界のフォトリソグラフィ機器市場は、急速な技術革新と半導体産業からの需要増加により、2026年までに289億7,350万米ドルに達すると予想され、年率10.75%で成長しています。デジタルトランスフォーメーションの... もっと見る

 

 

出版社 出版年月 電子版価格 ページ数 言語
TechSci Research
テックサイリサーチ
2021年10月1日 US$4,900
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113 英語

 

サマリー

世界のフォトリソグラフィ機器市場は、急速な技術革新と半導体産業からの需要増加により、2026年までに289億7,350万米ドルに達すると予想され、年率10.75%で成長しています。デジタルトランスフォーメーションの導入が進み、スマート家電の需要が高まり、自動車産業が急成長していることに加え、半導体産業の技術革新が進んでいることが、世界のフォトリソグラフィ装置の成長に拍車をかけています。半導体製造技術の進歩に伴い、企業は精度と生産能力の向上に注力する一方で、半導体メーカーの製造コストや間接費を削減しています。オランダのフォトリソグラフィメーカーであるASML社は、EUVフォトリソグラフィ装置を発売し、チップの製造方法に革命をもたらしました。ASML社は、EUVフォトリソグラフィ装置を発売し、チップの製造方法に革命を起こしました。ASML社は、コスト効率が高く、強力で、高速なチップをより小さなスケールで製造する能力を持っています。
世界のフォトリソグラフィ装置市場は、タイプ、波長、デバイス波長、最終用途、アプリケーション、地域、企業に基づいて分類されます。タイプ別では、EUVとDUV(ArFi、KrF、ArF、I-Line)に分類されます。EUVセグメントは、その精度の高さからEUVチップが最も好まれることから、半導体業界での需要が増加していることから、市場で最も速い成長が見込まれています。
フォトリソグラフィ装置は、波長の違いにより、1nm-170nm、170nm-270nm、270nm-370nmに分けられます。世界のフォトリソグラフィ装置市場では、1nm-170nmのセグメントが予測期間中に最も高いCAGRで成長すると予測されています。この波長は、NAND(Negative AND)論理ゲートやDRAM(Dynamic Random-access Memory)の製造に使用されます。これにより、半導体メーカーはメモリチップを低コストで製造することができます。半導体デバイスの製造には、様々なタイプのフォトリソグラフィ装置が使用されますが、EUVは主にこの波長を使用します。
世界のフォトリソグラフィ装置市場は、デバイスの波長に基づいて、レーザー生成プラズマ、水銀ランプ、エキシマレーザーに分類されています。EUVフォトリソグラフィ装置の販売が急増していることから、1nmまでの波長を高度に改善できるレーザー生成プラズマ光源の需要が高まっています。
ASML Holding NV、キヤノン株式会社、株式会社ニコン、EVグループ、Global Foundries, Inc.、Eulitha AGなどが、世界のフォトリソグラフィ装置市場で事業を展開している大手企業です。世界のフォトリソグラフィ機器市場は、ASMLが中心となって統合されており、そのシェアは76.07%と最も高く、主な顧客はサムスン、インテル、TSMCなどです。ASMLは過去10年間、市場の中心的存在であり、その高い信頼性と輸入者の満足度により、今後も市場をリードしていくことが期待されています。ASMLはEUV分野で100%のシェアを持ち、独占的な地位を確立しています。完全に独占していることに加え、ASMLがEUV装置の生産能力増強(20%増)や高精度化(2020年に30%高精度モデル)などの技術革新を進めていることから、同社はEUV装置の価格を大幅に引き上げており、米国と中国の貿易摩擦の影響も受けているという。これにより、ASML社から中国へのいくつかの注文がキャンセルされたため、発生した損失は他の国で販売する機械の価格を上げることで相殺された。
米国がEUV装置を貿易管理リストに載せたため、中国はEUV装置のための独自の研究開発を開始したが、今後4~5年のうちにこれらの装置が市場に出回ることはないだろう。2021年上半期にASMLが世界で販売したEUV装置は16台で、1台あたりの価格は1億8,000万ドルとなっている。
このレポートで考慮した年数
ヒストリカルイヤー:2016年~2019年
ベースイヤー: 2020
推定期間: 2021E
予測期間: 2022F-2026F
本調査の目的
- 2016年から2020年までの世界のフォトリソグラフィ装置市場の市場規模の過去の成長を分析すること。
- 2021年から2026年までのフォトリソグラフィ装置の世界市場規模および2026年までの成長率を推定・予測すること。
- タイプ、波長、デバイス波長、エンドユース、アプリケーション、地域、企業に基づいて、世界のフォトリソグラフィ装置市場を定義、分類、予測すること。
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場をフロントエンドとバックエンドの2つのセクターに分類することで、詳細な市場区分を精査し、金額ベースでの市場規模を最終用途セクターに基づいて予測すること。
- 地域別に、市場規模を分析・予測すること。
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場のドライバーと課題を明らかにすること。
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場における技術革新や技術進歩を推進している市場のリーディングプレイヤーを戦略的に紹介すること。

TechSci Research社は、本調査のために一次調査と徹底的な二次調査を行いました。まず最初に、TechSci Researchは世界のフォトリソグラフィ機器メーカーのリストを入手しました。その後、TechSci Researchは特定の企業に対して一次調査を行いました。インタビューの際には、回答者に競合他社についても質問しました。この手法により、二次調査の限界で特定できなかったメーカーを含めることができました。TechSci Researchは、世界中のすべての主要開発者の製品提供と存在を分析しました。
TechSci Research社は、トップダウン方式で世界のフォトリソグラフィ機器市場規模を算出しました。ここでは、様々な最終用途セグメントにおける様々なアプリケーションのデータを記録し、将来の予測を行いました。TechSci Research社は、これらの値を業界の専門家や企業の代表者から入手し、適切な全体の市場規模を得るために、これらの製品タイプやアプリケーションの過去のデータを分析して外部から検証しました。また、企業のウェブサイト、ニュース記事、プレスリリース、企業の年次報告書、投資家向けプレゼンテーション、財務報告書などの様々な二次資料も調査しました。
主な対象者
- フォトリソグラフィ機器技術ソリューションプロバイダー
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場のエンドユーザ(フロントエンド、バックエンド
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場に関連する団体、組織、フォーラム、アライアンス、半導体メーカー
- 規制当局や政策立案者などの政府機関
- 研究開発機関、コンサルティング会社
本調査は、メーカー、サプライヤー、エンドユーザーなどの業界関係者にとって重要ないくつかの重要な質問に対する回答を提供するのに役立ちます。また、今後数年間でどの市場セグメントをターゲットとすべきかを特定し、市場の成長に合わせた戦略的な投資を行う際にも役立ちます。
レポートの範囲
本レポートでは、フォトリソグラフィ装置の世界市場を以下のように分類し、さらに以下に詳述した業界動向も併せて報告しています。
- フォトリソグラフィ装置の世界市場、タイプ別。
o DUV (ArFi, KrF, ArF, I-line)
o EUV
- フォトリソグラフィ装置の世界市場:波長別
o 170nm-270nm
o 1nm-170nm
o 270nm-370nm
- フォトリソグラフィ装置の世界市場:デバイスの波長別
o エキシマレーザー
o レーザー生成プラズマ
o 水銀ランプ
- フォトリソグラフィ装置の世界市場:エンドユーズ別
o IDM
o ファウンドリー
- フォトリソグラフィ装置の世界市場:アプリケーション別
o バックエンド
o フロントエンド
- フォトリソグラフィ装置の世界市場:地域別
o アジア太平洋地域
- 中国
- 韓国
- 日本
- シンガポール
- インド
北アメリカ
- アメリカ
- メキシコ
- カナダ
ヨーロッパ
- ドイツ
- フランス
- イギリス
- イタリア
- スペイン
o 中東・アフリカ
- アラブ首長国連邦
- 南アフリカ共和国
- サウジアラビア
o 南米
- ブラジル
- アルゼンチン
- コロンビア
競争状況
企業プロフィール。世界のフォトリソグラフィ機器市場に参入している主要企業の詳細な分析を行っています。
顧客の声ブランド認知度、ブランド満足度、価格は、世界の様々なユーザーのフォトリソグラフィ装置市場に関連する意思決定に影響を与える主要な要因です。
カスタマイズが可能です。
与えられた市場データをもとに、TechSci Researchは企業の特定のニーズに応じたカスタマイズを提供します。本レポートでは、以下のカスタマイズオプションをご用意しています。
企業情報
- 追加の市場プレーヤー(最大5社)の詳細な分析とプロファイリング。

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目次

1.製品概要
2.リサーチ・メソドロジー
3.COVID-19がフォトリソグラフィ装置の世界市場に与える影響
4.エグゼクティブサマリー
5.お客様の声
5.1.ブランドの信頼性
5.2.EUVフォトリソグラフィで直面した課題
6.世界のフォトリソグラフィ装置市場の展望
6.1.市場規模と予測
6.1.1.金額・数量ベース
6.2.市場シェアと展望
6.2.1.タイプ別(DUV (ArFi, KrF, ArF, I-Line), EUV)
6.2.2.波長別(170nm-270nm, 1nm-170nm, 270nm-370nm)
6.2.3.デバイスの波長別(エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ、水銀ランプ
6.2.4.エンドユーズ別(IDM、ファウンドリー
6.2.5.アプリケーション別(バックエンド、フロントエンド
6.2.6.企業別(2020年
6.2.7.地域別
6.3.製品マーケットマップ
7.アジア太平洋地域のフォトリソグラフィ機器市場の展望
7.1.市場規模と予測
7.1.1.金額ベース
7.2.市場シェアと予測
7.2.1.タイプ別
7.2.2.波長別
7.2.3.デバイス波長別
7.2.4.エンドユーズ別
7.2.5.アプリケーション別
7.2.6.国別
7.3.アジア太平洋地域国別分析
7.3.1.中国フォトリソグラフィ機器市場の展望
7.3.1.1.市場規模と予測
7.3.1.1.1.金額ベース
7.3.1.2.市場シェアと展望
7.3.1.2.1.タイプ別
7.3.1.2.2.波長別
7.3.1.2.3.デバイス波長別
7.3.1.2.4.エンドユーズ別
7.3.1.2.5.アプリケーション別
7.3.2.韓国のフォトリソグラフィ機器市場の展望
7.3.2.1.市場規模と予測
7.3.2.1.1.金額ベース
7.3.2.2.市場シェアと予測
7.3.2.2.1.タイプ別
7.3.2.2.2.波長別
7.3.2.2.3.デバイス波長別
7.3.2.2.4.エンドユーズ別
7.3.2.2.5.アプリケーション別
7.3.3.日本のフォトリソグラフィ機器市場の展望
7.3.3.1.市場規模と予測
7.3.3.1.1.金額ベース
7.3.3.2.市場シェアと展望
7.3.3.2.1.タイプ別
7.3.3.2.2.波長別
7.3.3.2.3.デバイス波長別
7.3.3.2.4.エンドユーズ別
7.3.3.2.5.アプリケーション別
7.3.4.シンガポールのフォトリソグラフィ機器市場の展望
7.3.4.1.市場規模と予測
7.3.4.1.1.金額ベース
7.3.4.2.市場シェアと展望
7.3.4.2.1.タイプ別
7.3.4.2.2.波長別
7.3.4.2.3.デバイス波長別
7.3.4.2.4.エンドユーズ別
7.3.4.2.5.アプリケーション別
7.3.5.インドのフォトリソグラフィ機器市場の展望
7.3.5.1.市場規模と予測
7.3.5.1.1.金額ベース
7.3.5.2.市場シェアと展望
7.3.5.2.1.タイプ別
7.3.5.2.2.波長別
7.3.5.2.3.デバイス波長別
7.3.5.2.4.エンドユーズ別
7.3.5.2.5.アプリケーション別
8.北米フォトリソグラフィ機器市場の展望
8.1.市場規模と予測
8.1.1.金額ベース
8.2.市場シェアと予測
8.2.1.タイプ別
8.2.2.波長別
8.2.3.デバイス波長別
8.2.4.エンドユーズ別
8.2.5.アプリケーション別
8.2.6.国別
8.3.北アメリカ国別分析
8.3.1.米国のフォトリソグラフィ機器市場の展望
8.3.1.1.市場規模・予測
8.3.1.1.1.金額ベース
8.3.1.2.市場シェアと展望
8.3.1.2.1.タイプ別
8.3.1.2.2.波長別
8.3.1.2.3.デバイス波長別
8.3.1.2.4.エンドユーズ別
8.3.1.2.5.アプリケーション別
8.3.2.メキシコのフォトリソグラフィ機器市場の展望
8.3.2.1.市場規模と予測
8.3.2.1.1.金額ベース
8.3.2.2.市場シェアと予測
8.3.2.2.1.タイプ別
8.3.2.2.2.波長別
8.3.2.2.3.デバイス波長別
8.3.2.2.4.エンドユーズ別
8.3.2.2.5.アプリケーション別
8.3.3.カナダのフォトリソグラフィ機器市場の展望
8.3.3.1.市場規模と予測
8.3.3.1.1.金額ベース
8.3.3.2.市場シェアと展望
8.3.3.2.1.タイプ別
8.3.3.2.2.波長別
8.3.3.2.3.デバイス波長別
8.3.3.2.4.エンドユーズ別
8.3.3.2.5.アプリケーション別
9.欧州フォトリソグラフィ機器市場の展望
9.1.市場規模と予測
9.1.1.金額ベース
9.2.市場シェアと予測
9.2.1.タイプ別
9.2.2.波長別
9.2.3.デバイス波長別
9.2.4.エンドユーズ別
9.2.5.アプリケーション別
9.2.6.国別
9.3.ヨーロッパ国別分析
9.3.1.ドイツ フォトリソグラフィ機器市場の展望
9.3.1.1.市場規模と予測
9.3.1.1.1.金額ベース
9.3.1.2.市場シェアと展望
9.3.1.2.1.タイプ別
9.3.1.2.2.波長別
9.3.1.2.3.デバイス波長別
9.3.1.2.4.エンドユーズ別
9.3.1.2.5.アプリケーション別
9.3.2.フランスのフォトリソグラフィ機器市場の展望
9.3.2.1.市場規模と予測
9.3.2.1.1.金額ベース
9.3.2.2.市場シェアと予測
9.3.2.2.1.タイプ別
9.3.2.2.2.波長別
9.3.2.2.3.デバイス波長別
9.3.2.2.4.エンドユーズ別
9.3.2.2.5.アプリケーション別
9.3.3.イギリスのフォトリソグラフィ機器市場の展望
9.3.3.1.市場規模と予測
9.3.3.1.1.金額ベース
9.3.3.2.市場シェアと展望
9.3.3.2.1.タイプ別
9.3.3.2.2.波長別
9.3.3.2.3.デバイス波長別
9.3.3.2.4.エンドユーズ別
9.3.3.2.5.アプリケーション別
9.3.4.イタリアのフォトリソグラフィ機器市場の展望
9.3.4.1.市場規模・予測
9.3.4.1.1.金額ベース
9.3.4.2.市場シェアと展望
9.3.4.2.1.タイプ別
9.3.4.2.2.波長別
9.3.4.2.3.デバイス波長別
9.3.4.2.4.エンドユーズ別
9.3.4.2.5.アプリケーション別
9.3.5.スペインのフォトリソグラフィ機器市場の展望
9.3.5.1.市場規模と予測
9.3.5.1.1.金額ベース
9.3.5.2.市場シェアと展望
9.3.5.2.1.タイプ別
9.3.5.2.2.波長別
9.3.5.2.3.デバイス波長別
9.3.5.2.4.エンドユーズ別
9.3.5.2.5.アプリケーション別
10.中東・アフリカのフォトリソグラフィ装置市場の展望
10.1.市場規模と予測
10.1.1.金額ベース
10.2.市場シェアと予測
10.2.1.タイプ別
10.2.2.波長別
10.2.3.デバイス波長別
10.2.4.エンドユーズ別
10.2.5.アプリケーション別
10.2.6.国別
10.3.MEA: 国別分析
10.3.1.UAEのフォトリソグラフィ機器市場の展望
10.3.1.1.市場規模と予測
10.3.1.1.1.金額ベース
10.3.1.2.市場シェアと展望
10.3.1.2.1.タイプ別
10.3.1.2.2.波長別
10.3.1.2.3.デバイス波長別
10.3.1.2.4.エンドユーズ別
10.3.1.2.5.アプリケーション別
10.3.2.南アフリカのフォトリソグラフィ機器市場の展望
10.3.2.1.市場規模と予測
10.3.2.1.1.金額ベース
10.3.2.2.市場シェアと予測
10.3.2.2.1.タイプ別
10.3.2.2.2.波長別
10.3.2.2.3.デバイス波長別
10.3.2.2.4.エンドユーズ別
10.3.2.2.5.アプリケーション別
10.3.3.サウジアラビアのフォトリソグラフィ機器市場の展望
10.3.3.1.市場規模・予測
10.3.3.1.1.金額ベース
10.3.3.2.市場シェアと展望
10.3.3.2.1.タイプ別
10.3.3.2.2.波長別
10.3.3.2.3.デバイス波長別
10.3.3.2.4.エンドユーズ別
10.3.3.2.5.アプリケーション別
11.南米のフォトリソグラフィ機器市場の展望
11.1.市場規模と予測
11.1.1.金額ベース
11.2.市場シェアと予測
11.2.1.タイプ別
11.2.2.波長別
11.2.3.デバイス波長別
11.2.4.エンドユーズ別
11.2.5.アプリケーション別
11.2.6.国別
11.3.南アメリカ国別分析
11.3.1.ブラジルのフォトリソグラフィ機器市場の展望
11.3.1.1.市場規模と予測
11.3.1.1.1.金額ベース
11.3.1.2.市場シェアと展望
11.3.1.2.1.タイプ別
11.3.1.2.2.波長別
11.3.1.2.3.デバイス波長別
11.3.1.2.4.エンドユーズ別
11.3.1.2.5.アプリケーション別
11.3.2.アルゼンチンのフォトリソグラフィ機器市場の展望
11.3.2.1.市場規模と予測
11.3.2.1.1.金額ベース
11.3.2.2.市場シェアと予測
11.3.2.2.1.タイプ別
11.3.2.2.2.波長別
11.3.2.2.3.デバイス波長別
11.3.2.2.4.エンドユーズ別
11.3.2.2.5.アプリケーション別
11.3.3.コロンビアのフォトリソグラフィ機器市場の展望
11.3.3.1.市場規模・予測
11.3.3.1.1.金額ベース
11.3.3.2.市場シェアと展望
11.3.3.2.1.タイプ別
11.3.3.2.2.波長別
11.3.3.2.3.デバイス波長別
11.3.3.2.4.エンドユーズ別
11.3.3.2.5.アプリケーション別
12.マーケットダイナミクス
12.1.ドライバー
12.2.課題
13.市場動向と開発状況
14.競合状況
14.1.ASML Holding N.V.
14.2.キヤノン株式会社
14.3.株式会社ニコン
14.4.Eulitha AG
14.5.EVグループ
14.6.GlobalFoundries Inc.
15.戦略的提言
16.会社概要・免責事項

 

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Summary

Global photolithography equipment market is expected to reach USD28,973.50 million by 2026, growing at a CAGR of 10.75% owing to the rapid technological advancements and increasing demand from the semiconductor industry. The increasing adoption of digital transformation across sectors, rising demand for smart appliances, burgeoning advancements in automotive and innovations across the semiconductor industry is providing impetus to photolithography equipment growth across the globe. With the onset of advances in semiconductor manufacturing technologies, the companies are focusing on increasing precision and production capacity while decreasing overall manufacturing and overhead costs for semiconductor manufacturers. One such innovation is led by ASML, a Netherlands based photolithography equipment manufacturer which launched EUV photolithography equipment and revolutionized the way chips are manufactured. It has an ability to manufacture the chips at smaller scales which are cost-efficient, powerful, and faster than their counterparts.
The global photolithography equipment market can be segmented based on the type, wavelength, device wavelength, end-use, application, region and company. Based on type, the market can be segmented into EUV and DUV (ArFi, KrF, ArF and I-Line). EUV segment is anticipated to exhibit the fastest growth in the market, owing to its increasing demand from the semiconductor industry as EUV chips are the most preferred due to their precision.
Based on wavelength, photolithography equipment can be divided into 1nm-170nm, 170nm-270nm, and 270nm-370nm. The 1nm–170nm segment of the global photolithography equipment market is projected to grow at the highest CAGR during the forecast period. This wavelength is used to produce negative AND (NAND) logic gates and dynamic random-access memory (DRAM). It allows semiconductor manufacturers to produce memory chips at low costs. Among different types of photolithography equipment used, EUV majorly uses this wavelength to manufacture semiconductor devices.
Based on device wavelength, the global photolithography equipment market has been classified into laser-produced plasmas, mercury lamps and excimer lasers. The burgeoning EUV photolithography equipment sales is driving the demand for laser-produced plasma light sources as they offer highly improved wavelengths of up to 1 nm.
ASML Holding NV, Canon, Inc., Nikon Corp., EV Group, Global Foundries, Inc., and Eulitha AG are some of the leading players operating in the global photolithography equipment market. The global photolithography equipment market is consolidated with ASML taking a center stage, contributing to the highest share of 76.07% in the market with its major customers being Samsung, Intel, and TSMC. ASML has been the key market player for the past 10 years and is expected to lead the market in the future as well on account of its high reliability and importer satisfaction. ASML holds monopoly in EUV segment, marking 100% share. Owing to complete monopoly and increasing innovations such as production capacity enhancement (20% increase) and precision enhancement (30% more precise models in 2020) in EUV machines by ASML, the company has increased prices for EUV machines significantly, which are also augmented by US China trade face-off. It led to cancelling several orders from ASML to China, hence the losses incurred were offset by increasing the prices of machines sold in other countries.
As the U.S. has put EUV machines on US trade control list, China has started its own R&D for these machines, but it is unlikely that these machines will be out there in the market in next 4-5 years. For the first half of 2021, ASML sold 16 EUV machines across the globe, with the price point of USD180 million per machine.
Years considered for this report:
Historical Years: 2016-2019
Base Year: 2020
Estimated Year: 2021E
Forecast Period: 2022F-2026F
Objective of the Study:
• To analyze the historical growth in the market size of the global photolithography equipment market from 2016 to 2020.
• To estimate and forecast the market size of the global photolithography equipment market from 2021 to 2026 and growth rate until 2026.
• To define, classify and forecast the global photolithography equipment market based on type, wavelength, device wavelength, end-use, application, region, and company.
• To scrutinize the detailed market segmentation and forecast the market size, in terms of value, and based on end-use sector by segmenting global photolithography equipment market into two sectors, namely, Front-End and Back-End.
• To analyze and forecast the market size, in terms of regions.
• To identify the drivers and challenges for the global photolithography equipment market.
• To strategically profile leading players in the market which are driving the innovation and technological advancements in the global photolithography equipment market.

TechSci Research performed both primary as well as exhaustive secondary research for this study. Initially, TechSci Research sourced a list of photolithography equipment manufacturers across the globe. Subsequently, TechSci Research conducted primary research surveys with the identified companies. While interviewing, the respondents were also enquired about their competitors. Through this technique, TechSci Research was able to include the manufacturers which could not be identified due to the limitations of secondary research. TechSci Research analyzed the product offerings, and presence of all major developers across the globe.
TechSci Research calculated the global photolithography equipment market size using a top-down approach, where data for various applications across various end-use segments was recorded and forecast for the future years. TechSci Research sourced these values from the industry experts and company representatives and externally validated through analyzing historical data of these product types and applications for getting an appropriate, overall market size. Various secondary sources such as company websites, news articles, press releases, company annual reports, investor presentations and financial reports were also studied by TechSci Research.
Key Target Audience:
• Photolithography equipment technology solution providers
• End-Users of global photolithography equipment market (Front-End and Back-End)
• Associations, organizations, forums, and alliances associated with the global photolithography equipment market, semiconductor manufacturers
• Government bodies such as regulating authorities and policy makers
• Research & development organizations and consulting firms
The study is useful in providing answers to several critical questions that are important for the industry stakeholders such as manufacturers, suppliers, and End-Uses. The study would also help them in identifying which market segments should be targeted over the coming years to strategize investments and capitalize on growth of the market.
Report Scope:
In this report, the global photolithography equipment market has been segmented into the following categories, in addition to the industry trends which have also been detailed below:
• Global Photolithography Equipment Market, By Type:
o DUV (ArFi, KrF, ArF, I-line)
o EUV
• Global Photolithography Equipment Market, By Wavelength:
o 170nm-270nm
o 1nm-170nm
o 270nm-370nm
• Global Photolithography Equipment Market, By Device Wavelength:
o Excimer Lasers
o Laser Produced Plasma
o Mercury Lamps
• Global Photolithography Equipment Market, By End-Use:
o IDMs
o Foundries
• Global Photolithography Equipment Market, By Application:
o Back End
o Front End
• Global Photolithography Equipment Market, By Region:
o Asia-Pacific
• China
• South Korea
• Japan
• Singapore
• India
o North America
• United States
• Mexico
• Canada
o Europe
• Germany
• France
• United Kingdom
• Italy
• Spain
o Middle East & Africa
• UAE
• South Africa
• Saudi Arabia
o South America
• Brazil
• Argentina
• Colombia
Competitive Landscape
Company Profiles: Detailed analysis of the major companies present in the global photolithography equipment market.
Voice of Customer: Brand Awareness, Brand Satisfaction, and Price are the major factors affecting decision related to the global photolithography equipment market for various users, globally.
Available Customizations:
With the given market data, TechSci Research offers customizations according to a company’s specific needs. The following customization options are available for the report:
Company Information
• Detailed analysis and profiling of additional market players (up to five).



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Table of Contents

1. Product Overview
2. Research Methodology
3. Impact of COVID-19 on Global Photolithography Equipment Market
4. Executive Summary
5. Voice of Customer
5.1. Brand Reliability
5.2. Challenges Faced Related to EUV Photolithography
6. Global Photolithography Equipment Market Outlook
6.1. Market Size & Forecast
6.1.1. By Value and Volume
6.2. Market Share & Forecast
6.2.1. By Type (DUV (ArFi, KrF, ArF, I-Line), EUV)
6.2.2. By Wavelength (170nm-270nm, 1nm-170nm, 270nm-370nm)
6.2.3. By Device Wavelength (Excimer Lasers, Laser Produced Plasma, Mercury Lamps)
6.2.4. By End-Use (IDMs, Foundries)
6.2.5. By Application (Back End, Front End)
6.2.6. By Company (2020)
6.2.7. By Region
6.3. Product Market Map
7. Asia-Pacific Photolithography Equipment Market Outlook
7.1. Market Size & Forecast
7.1.1. By Value
7.2. Market Share & Forecast
7.2.1. By Type
7.2.2. By Wavelength
7.2.3. By Device Wavelength
7.2.4. By End-Use
7.2.5. By Application
7.2.6. By Country
7.3. Asia-Pacific: Country Analysis
7.3.1. China Photolithography Equipment Market Outlook
7.3.1.1. Market Size & Forecast
7.3.1.1.1. By Value
7.3.1.2. Market Share & Forecast
7.3.1.2.1. By Type
7.3.1.2.2. By Wavelength
7.3.1.2.3. By Device Wavelength
7.3.1.2.4. By End-Use
7.3.1.2.5. By Application
7.3.2. South Korea Photolithography Equipment Market Outlook
7.3.2.1. Market Size & Forecast
7.3.2.1.1. By Value
7.3.2.2. Market Share & Forecast
7.3.2.2.1. By Type
7.3.2.2.2. By Wavelength
7.3.2.2.3. By Device Wavelength
7.3.2.2.4. By End-Use
7.3.2.2.5. By Application
7.3.3. Japan Photolithography Equipment Market Outlook
7.3.3.1. Market Size & Forecast
7.3.3.1.1. By Value
7.3.3.2. Market Share & Forecast
7.3.3.2.1. By Type
7.3.3.2.2. By Wavelength
7.3.3.2.3. By Device Wavelength
7.3.3.2.4. By End-Use
7.3.3.2.5. By Application
7.3.4. Singapore Photolithography Equipment Market Outlook
7.3.4.1. Market Size & Forecast
7.3.4.1.1. By Value
7.3.4.2. Market Share & Forecast
7.3.4.2.1. By Type
7.3.4.2.2. By Wavelength
7.3.4.2.3. By Device Wavelength
7.3.4.2.4. By End-Use
7.3.4.2.5. By Application
7.3.5. India Photolithography Equipment Market Outlook
7.3.5.1. Market Size & Forecast
7.3.5.1.1. By Value
7.3.5.2. Market Share & Forecast
7.3.5.2.1. By Type
7.3.5.2.2. By Wavelength
7.3.5.2.3. By Device Wavelength
7.3.5.2.4. By End-Use
7.3.5.2.5. By Application
8. North America Photolithography Equipment Market Outlook
8.1. Market Size & Forecast
8.1.1. By Value
8.2. Market Share & Forecast
8.2.1. By Type
8.2.2. By Wavelength
8.2.3. By Device Wavelength
8.2.4. By End-Use
8.2.5. By Application
8.2.6. By Country
8.3. North America: Country Analysis
8.3.1. United States Photolithography Equipment Market Outlook
8.3.1.1. Market Size & Forecast
8.3.1.1.1. By Value
8.3.1.2. Market Share & Forecast
8.3.1.2.1. By Type
8.3.1.2.2. By Wavelength
8.3.1.2.3. By Device Wavelength
8.3.1.2.4. By End-Use
8.3.1.2.5. By Application
8.3.2. Mexico Photolithography Equipment Market Outlook
8.3.2.1. Market Size & Forecast
8.3.2.1.1. By Value
8.3.2.2. Market Share & Forecast
8.3.2.2.1. By Type
8.3.2.2.2. By Wavelength
8.3.2.2.3. By Device Wavelength
8.3.2.2.4. By End-Use
8.3.2.2.5. By Application
8.3.3. Canada Photolithography Equipment Market Outlook
8.3.3.1. Market Size & Forecast
8.3.3.1.1. By Value
8.3.3.2. Market Share & Forecast
8.3.3.2.1. By Type
8.3.3.2.2. By Wavelength
8.3.3.2.3. By Device Wavelength
8.3.3.2.4. By End-Use
8.3.3.2.5. By Application
9. Europe Photolithography Equipment Market Outlook
9.1. Market Size & Forecast
9.1.1. By Value
9.2. Market Share & Forecast
9.2.1. By Type
9.2.2. By Wavelength
9.2.3. By Device Wavelength
9.2.4. By End-Use
9.2.5. By Application
9.2.6. By Country
9.3. Europe: Country Analysis
9.3.1. Germany Photolithography Equipment Market Outlook
9.3.1.1. Market Size & Forecast
9.3.1.1.1. By Value
9.3.1.2. Market Share & Forecast
9.3.1.2.1. By Type
9.3.1.2.2. By Wavelength
9.3.1.2.3. By Device Wavelength
9.3.1.2.4. By End-Use
9.3.1.2.5. By Application
9.3.2. France Photolithography Equipment Market Outlook
9.3.2.1. Market Size & Forecast
9.3.2.1.1. By Value
9.3.2.2. Market Share & Forecast
9.3.2.2.1. By Type
9.3.2.2.2. By Wavelength
9.3.2.2.3. By Device Wavelength
9.3.2.2.4. By End-Use
9.3.2.2.5. By Application
9.3.3. United Kingdom Photolithography Equipment Market Outlook
9.3.3.1. Market Size & Forecast
9.3.3.1.1. By Value
9.3.3.2. Market Share & Forecast
9.3.3.2.1. By Type
9.3.3.2.2. By Wavelength
9.3.3.2.3. By Device Wavelength
9.3.3.2.4. By End-Use
9.3.3.2.5. By Application
9.3.4. Italy Photolithography Equipment Market Outlook
9.3.4.1. Market Size & Forecast
9.3.4.1.1. By Value
9.3.4.2. Market Share & Forecast
9.3.4.2.1. By Type
9.3.4.2.2. By Wavelength
9.3.4.2.3. By Device Wavelength
9.3.4.2.4. By End-Use
9.3.4.2.5. By Application
9.3.5. Spain Photolithography Equipment Market Outlook
9.3.5.1. Market Size & Forecast
9.3.5.1.1. By Value
9.3.5.2. Market Share & Forecast
9.3.5.2.1. By Type
9.3.5.2.2. By Wavelength
9.3.5.2.3. By Device Wavelength
9.3.5.2.4. By End-Use
9.3.5.2.5. By Application
10. Middle East and Africa Photolithography Equipment Market Outlook
10.1. Market Size & Forecast
10.1.1. By Value
10.2. Market Share & Forecast
10.2.1. By Type
10.2.2. By Wavelength
10.2.3. By Device Wavelength
10.2.4. By End-Use
10.2.5. By Application
10.2.6. By Country
10.3. MEA: Country Analysis
10.3.1. UAE Photolithography Equipment Market Outlook
10.3.1.1. Market Size & Forecast
10.3.1.1.1. By Value
10.3.1.2. Market Share & Forecast
10.3.1.2.1. By Type
10.3.1.2.2. By Wavelength
10.3.1.2.3. By Device Wavelength
10.3.1.2.4. By End-Use
10.3.1.2.5. By Application
10.3.2. South Africa Photolithography Equipment Market Outlook
10.3.2.1. Market Size & Forecast
10.3.2.1.1. By Value
10.3.2.2. Market Share & Forecast
10.3.2.2.1. By Type
10.3.2.2.2. By Wavelength
10.3.2.2.3. By Device Wavelength
10.3.2.2.4. By End-Use
10.3.2.2.5. By Application
10.3.3. Saudi Arabia Photolithography Equipment Market Outlook
10.3.3.1. Market Size & Forecast
10.3.3.1.1. By Value
10.3.3.2. Market Share & Forecast
10.3.3.2.1. By Type
10.3.3.2.2. By Wavelength
10.3.3.2.3. By Device Wavelength
10.3.3.2.4. By End-Use
10.3.3.2.5. By Application
11. South America Photolithography Equipment Market Outlook
11.1. Market Size & Forecast
11.1.1. By Value
11.2. Market Share & Forecast
11.2.1. By Type
11.2.2. By Wavelength
11.2.3. By Device Wavelength
11.2.4. By End-Use
11.2.5. By Application
11.2.6. By Country
11.3. South America: Country Analysis
11.3.1. Brazil Photolithography Equipment Market Outlook
11.3.1.1. Market Size & Forecast
11.3.1.1.1. By Value
11.3.1.2. Market Share & Forecast
11.3.1.2.1. By Type
11.3.1.2.2. By Wavelength
11.3.1.2.3. By Device Wavelength
11.3.1.2.4. By End-Use
11.3.1.2.5. By Application
11.3.2. Argentina Photolithography Equipment Market Outlook
11.3.2.1. Market Size & Forecast
11.3.2.1.1. By Value
11.3.2.2. Market Share & Forecast
11.3.2.2.1. By Type
11.3.2.2.2. By Wavelength
11.3.2.2.3. By Device Wavelength
11.3.2.2.4. By End-Use
11.3.2.2.5. By Application
11.3.3. Colombia Photolithography Equipment Market Outlook
11.3.3.1. Market Size & Forecast
11.3.3.1.1. By Value
11.3.3.2. Market Share & Forecast
11.3.3.2.1. By Type
11.3.3.2.2. By Wavelength
11.3.3.2.3. By Device Wavelength
11.3.3.2.4. By End-Use
11.3.3.2.5. By Application
12. Market Dynamics
12.1. Drivers
12.2. Challenges
13. Market Trends & Developments
14. Competitive Landscape
14.1. ASML Holding N.V.
14.2. Canon Inc.
14.3. Nikon Corp.
14.4. Eulitha AG
14.5. EV Group
14.6. GlobalFoundries Inc.
15. Strategic Recommendations
16. About Us & Disclaimer

 

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